28 October 2010

Trento – Fondazione Bruno Kessler – Sala Conferenze Luigi Stringa

La Giornata di Studio “Il futuro del silicio nel fotovoltaico”, nata dalla collaborazione dei chapter IEEE Photonics e Nanotechnology con l’Università di Trento e la FBK-Fondazione Bruno Kessler, si e’ svolta a Povo di Trento, gentilmente ospitata presso FBK, il giorno 28 ottobre 2010. L’evento ha avuto un notevole successo sia per l’affluenza sia per la partecipazione alla tavola rotonda. Quest’ultima ha visto l’intervento di importanti realtà industriali un operatore del settore e due start up.


Organizzato da: T. Tambosso (IEEE Photonics Italy Chapter), L. Pavesi (IEEE Nanotechnology Italy Chapter e Univ. di Trento), P. Bellutti (Fondazione Bruno Kessler)
Sponsorizzato da: IEEE Italy Section, IEEE Photonics Italy Chapter, Fondazione Bruno Kessler, Dolomiti Energia, Lima Promosso da: IEEE-PE Italy Chapter, IEEE IE/IA/PEL Joint North Italy Chapter, AEIT-AEE